鎳及鎳合金制件的拋光

   鎳及鎳制件的機械拋光    

自19世紀70年代以后，高整平光亮酸性鍍銅和高整平光亮鍍鎳技術已日臻完善，大部分裝飾性電鍍銅/鉻或鎳鐵/鉻制件已可不用機械拋光鎳鉻表面，即可達到各種零部件裝飾性的要求。只有少數(shù)光亮度要求特別高或反射率要求特別高的部件，在鍍光亮鎳后或在鍍鉻后再進行適當?shù)淖詣訏伖鈾C的機械拋光。這種類型的機械拋光大都采用常規(guī)的機械拋光設備進行。

隨著電腦的日益普及，鋁基化學度鉻鎳磁碟的應用也越來越普遍。具有高機械強度、高耐蝕性、同時又無磁性化學鍍鎳磷（高磷）合金鍍層已被確認為高密度磁記錄介質(zhì)層的最佳底鍍層，這已為許多專利所證明。化學鍍磷合金可以在無外界電流的條件下直接在經(jīng)過預處理過的鋁碟上施鍍，方法簡單，生產(chǎn)效率高，而且所得的鎳磷鍍層具有很好的結合力，結晶細小，厚度分布十分均勻。鎳磷合金磁碟的機械拋光由塑料棍、冷卻劑、噴口和拋光帶組成。拋光時控制軸承的內(nèi)壓或外壓，將含磨料粒子的拋光帶壓在被拋光的Ni—P合金磁碟上，同時冷卻劑通過噴口Ni-P鍍層與拋光帶的界面，轉動拋光帶即可進行自動拋光機機械拋光。拋光時也可用不含磨料粒子的拋光帶，磨料與冷卻劑混合后由噴口噴向拋光帶，磨粒與冷卻劑混合后由噴口噴向拋光帶與磁碟件的間隙，磨料粒子（如Al2O3）對冷卻劑的混合比是Al2O3：水=（2～3)g:1000mL。

 自動拋光機的拋光帶通常用編織聚酯纖維布，厚度100υm,拋光帶可涂上研磨劑粒子和粘合劑的混合物。研磨劑可用金剛石、氧化鋁 、碳化硅、氧化鉻、氧化鐵、氧化鈰或者它們混合物。研磨劑的粒徑通常在2υm～3υm左右，對鋁磁碟最常見的是氧化鋁做磨料粒子。

在美國專利中介紹了一種用冷卻劑與磨料的混合液進行機械拋光化學鍍鎳磷磁碟的方法。這種混合液含有兩種氧化鋁，，一種是六邊形未經(jīng)未經(jīng)潤滑處理Al2O3，其粒徑為1υm～10υm（通常用3υm～5υm），Al2O3的含量體積分數(shù)為1%～5%；另一種Al2O3為膠體狀Al2O3懸浮液，其濃度為5%～10%（通常是6%～8%），粒徑在10?～1000?，它也可以用涂附了Al2O3的石英粉來代替純的Al2O3。懸浮液的PH為4～6（5～6為佳），它含有少量的表面活性劑。若加入羥丙基纖維素，可提高懸浮液的粘稠度并使PH值升高至7。